Экспозиция (засветка)
Время, требуемое для экспонирования, зависит от толщины слоя фоторезиста и интенсивности источника света. Лак-фоторезист POSITIV 20 чувствителен к ультрафиолетовым лучам, максимум чувствительности приходится на участок с длиной волны 360-410 нм.
Лучше всего экспонировать под лампами, диапазон излучения которых находится в ультрафиолетовой области спектра, но если такой лампы у вас нет — можно использовать и обычные мощные лампы накаливания, увеличив время экспозиции. Не начинайте засветку до момента стабилизации освещения от источника — необходимо, чтобы лампа прогрелась в течение 2-3 минут. Время экспозиции зависит от толщины покрытия и обычно составляет 60-120 секунд при расположении источника света на расстоянии 25-30 см. Используемые пластины стекла могут поглощать до 65% ультрафиолета, поэтому в таких случаях необходимо увеличивать время экспозиции. Лучшие результаты достигаются при использовании прозрачных плексигласовых пластин. При применении фоторезиста с длительным сроком хранения время экспонирования может потребоваться увеличить вдвое — помните: фоторезисты подвержены старению!
Примеры использования различных источников света:
| ртутная лампа Philips HPR125 | 3 мин. | 30 см | покрытие из кварцевого стекла толщиной 5 мм |
| ртутная лампа 1000W | 1,5 мин. | 50 см | покрытие из кварцевого стекла толщиной 5 мм |
| ртутная лампа 500W | 2,5 мин. | 50 см | покрытие из кварцевого стекла толщиной 5 мм |
| кварцевая лампа 300W | 3-4 мин. | 30 см | покрытие из кварцевого стекла толщиной 5 мм |
| солнечный свет | 5-10 мин. | лето, в полдень, безоблачно | покрытие из кварцевого стекла толщиной 5 мм |
| лампы Osram-Vitalux 300W | 4-8 мин. | 40 см | покрытие из кварцевого стекла толщиной 8 мм |
Лампы УФ-излучения
Каждую сторону экспонируем по очереди, после экспозиции даем выстояться заготовке 20-30 минут в затемненном месте.
